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    題名: Critical dimension control in photolithography based on the yield by a simulation program
    作者: Kang, H.Y.;Lee, A.H.I.
    日期: 2006
    上傳時間: 2008-10-19
    關聯: Microelectronics Reliability, 46(5-6), 1006-1012
    顯示於類別:[工業工程與管理系(所)] 【工業工程與管理系所】期刊論文

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