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    題名: 使用RF射頻磁控濺鍍氧化鋅鋁透明導電薄膜之研究
    作者: 盧鴻華
    游裕傑
    紀昭宇
    葉仲凱
    童羿純
    貢獻者: 勤益科技大學機械工程系
    關鍵詞: 氧化鋅鋁
    透明導電薄膜
    交流磁控濺鍍
    日期: 2010-06
    上傳時間: 2010-09-20 11:47:05 (UTC+8)
    摘要: 本研究以射頻磁控濺鍍法製作氧化鋅鋁(AZOY)透明導電薄膜於玻璃基板上，在室溫下、工作壓力固定為3mTorr、膜厚為500nm時，探討濺鍍功率對於薄膜的微結構、表面型態與光電特性之影響。由實驗結果得知，在不同濺鍍功率下沉積的AZOY薄膜，可以從X-ray繞射分析觀察到具有c 軸(002)之優選取向，薄膜穿透率在可見光範圍平均在80%以上；當工作壓力為3mtorr時，薄膜厚度為500nm，濺鍍功率為175W時，可得到較低電阻率為6.38×10-4Ω-cm。
    關聯: 第五屆智慧生活科技研討會論文集(下)
    顯示於類別:[資訊工程系(所)] 第五屆智慧生活科技研討會

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    使用RF射頻磁控濺鍍氧化鋅鋁透明導電薄膜之研究.pdf442KbAdobe PDF9662檢視/開啟


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