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    題名: 溼式製程光學多層膜機構之研究
    A study on optical multilayer mechanism with deposited by wet processing
    作者: 張原順
    Zhang, Yuan-Shun
    貢獻者: 化工與材料工程系
    關鍵詞: 抗反射鍍膜;有機-無機混成材料;孔洞率
    anti-reflective coatings;organic-inorganic hybrid materials;porosity
    日期: 2007
    上傳時間: 2008-09-26 09:13:43 (UTC+8)
    摘要: 本論文研究之主要目的為利用溼式溶膠凝膠法製備高、低折射率之無機材料(TiO2、SiO2),混掺紫外線硬化型(UV-type)之有機相,分別製備出具有高、低折射之有機-無機混成材,分別由旋轉塗佈(spin coating)與浸沾塗佈(dip coating)的方式,塗佈於壓克力(PMMA)基板或鍍有硬層的壓克力(HC-PMMA)基板上,再藉由紫外光硬化形成雙層、多層的光學鍍膜。
    依不同的塗佈方式,探討光學鍍膜的膜厚以及其鍍膜的折射值,期盼找出不同折射率與厚度之搭配,依據光干涉原理可以得到最佳抗反射效果,並利用霧度計、光澤度計、紫外光/可見光光譜儀搭配積分球、橢圓偏光儀、膜厚計、接觸角暨表面能分析、鉛筆硬度計、百格測試、AFM和FE-SEM分析光學鍍膜機構之研究。
    研究結果顯示利用不同塗佈參數與固含量來控制鍍膜厚度,其膜厚與旋轉速度成反比,但與浸沾塗佈拉速、固含量成正比,固含量對膜厚影響較大而速度影響較小。
    另外,因不同塗佈參數造成鍍膜表面有不同的孔洞率,其孔洞率與鍍膜的折射率成反比,與表面能有成正比的關係,且其鍍層與鍍層之間有好的附著力,整體硬度也有達到4H。
    經由本研究成功製備多層抗反射鍍膜於塑膠壓克力基板上,在光波長550nm下之反射率為0.21%,達到可見光抗反射效果。
    顯示於類別:[化工與材料工程系(所)] 【化工與材料工程系】博碩士論文

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