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    題名: 共蒸鍍銅銦合金與硒化後之性質研究
    作者: 國立勤益科技大學 機械工程學系(所) 盧鴻華;紀昭宇;游裕傑;葉仲凱;童羿純
    貢獻者: 圖書館
    日期: 2010-05-26
    上傳時間: 2012-04-14 10:38:23 (UTC+8)
    摘要: 本研究係利用熱電阻式共蒸鍍法(ThermalCo-Evaporate)，將銅銦合金沉積於玻璃基板上，再將所得到之銅銦合金薄膜置於封閉式石墨盒中，利用高溫爐管以二階段硒化法進行硒化，探討在不同的銅銦成分比率下，其硒化前後之銅銦薄膜的化學組成、表面型態、晶粒大小及微觀組織，實驗結果顯示，硒化前之銅銦合金晶粒大小、表面形貌隨銅銦化學組成比增加而減小且平整，主要為CuIn結構；硒化後之薄膜其晶粒大小、表面形貌隨化學組成比增加而增大且粗糙，與硒化前相反，高溫硒化後富銅(Cu-rich)條件下生成較複雜二硒化銅銦相，使電性變好，薄膜主要為CuInSe2(112)黃銅礦結構。
    關聯: 2010綠色科技工程與應用研討會論文集
    顯示於類別:[機械工程系(所)] 【機械工程系】研討會論文

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