應用六標準差改善PSS的ICP製程能力

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題名:	應用六標準差改善PSS的ICP製程能力
作者:	劉岱榕黃俊明林文燦
貢獻者:	資訊與電能科技研究所
關鍵詞:	統計製程管制反應曲面法六標準差法圖案化藍寶石基板
日期:	2012
上傳時間:	2013-08-06 14:42:59 (UTC+8)
出版者:	台中;國立勤益科技大學
摘要:	圖案化藍寶石基板(Patterned Sapphire Substrate ; PSS)是現階段製作高亮度發光二極體，最常使用的技術。其主要是透過蝕刻的製程先在平坦的藍寶石基板上製作規則的圖案，然後在規則蝕刻的藍寶石基板上製作LED磊晶製程)。以蝕刻的深度來說，300奈米的差異就會對LED的輸出功率及發光效率產生影響。若晶圓的蝕刻均勻度不佳，對於生產的品質就是不穩定。本研究主要是在於改善圖案化藍寶基板蝕刻均勻性的問題，應用六個標準差改善手法，結合反應曲面法在離子偶合電漿蝕刻製程 (Ion Coupled Plasma Etching, ICP Etching)找出最佳參數。量測階段使用Gauge R&R評估量測系統。透過本研究改善案例的流程與結果，希望可作為相關業界品質改善之參考。
顯示於類別:	[研發與科技管理研究所] 【研發與科技管理研究所】博碩士論文

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