光電產業XXY移載定位平台定位精度穩定性之研究

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題名:	光電產業XXY移載定位平台定位精度穩定性之研究
作者:	劉文淵黃俊明林文燦
貢獻者:	資訊與電能科技研究所
關鍵詞:	反應曲面法 XXY TABLE 六標準差手法 TRIZ
日期:	2012
上傳時間:	2013-08-06 14:43:55 (UTC+8)
出版者:	台中;國立勤益科技大學
摘要:	隨著產業的發展，製程設備商已處於品質與時間並重的時代。目前自動化製程設備一直朝向高速、高精度的方向發展。因產品生命週期的遽降與製程的快速變動，設備品質與定位精度儼然成為產業競爭的首要課題。因此，在要求設備品質與定位精度前提下，研究能事先掌握設備的預測定位精度，及解決精度需求之要因參數的穩定性問題，確有其必要性。隨著定位精度的提升，位置定位系統的設計也愈趨困難。要提高機械定位系統的精度並非簡單任務，須搭配機械結構本身的精度，結合致動器、感測器與控制系統相互配合才能達成。在光電及半導體產業自動化高速定位方面，XXY移載定位平台被廣泛應用，以達到精準定位之需求。本文在於研究XXY移載定位平台定位精度穩定性之研究，運用六標準差DMAIC的改善手法，以定位精度為研究主體，控制伺服參數進行定位精度穩定性，最後利用影像回授的方式來控制一個XXY 軸運動平台，使平台之定位精度控制穩定性介於定位標準值的正負5 (μm)公差。研究方法使用TRIZ發明原則之系統化思維找出影響定位精度穩定性之關鍵因子，結合反應曲面方法(Respond Surface Method)的參數實驗設計方法及統計製程管制，求出最佳參數水準組合，實驗結果顯示Cpk由原本的0.48提升到1.51，對定位精度穩定性有顯著提升，本研究之結果亦可提供設備製造商減少調機不良的人工成本浪費，改善設備製造的時程。
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