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    題名: 應用六標準差改善再生矽晶圓粗拋光製程參數最佳化之研究
    作者: 郭永菁
    張嘉寶
    貢獻者: 工業工程與管理系
    關鍵詞: 田口實驗方法
    六標準差
    再生矽晶圓
    拋光製程
    日期: 2011
    上傳時間: 2013-08-14 14:17:10 (UTC+8)
    出版者: 台中;國立勤益科技大學
    摘要: 六標準差手法主要是運用品管與統計方法改善產品品質,減少不良品的成本與浪費。本研究主旨即在運用六標準差手法並以DMAIC五個步驟,定義(Define)、衡量(Measure)、分析(Analyze)、改善(Improve)和控制(Control),有系統的針對再生矽晶圓拋光製程深入分析,在低成本且快速的原則下,找到影響製程能力的關鍵因素與最佳組合水準,並結合田口品質工程的參數設計方法,由個案公司製程之實證研究,獲得改善再生矽晶圓拋光製程能力之模式,從現有的拋光製程參數中,針對主製程段的盤頭下壓壓力、拋光液流量、盤面轉速與盤頭轉速,設計一個四因子三水準的實驗進行實證研究。本研究亦考量拋光製程中各參數條件對於拋光結果的關聯性,分析各拋光因子對於拋光製程後的移除率(MRR)與晶圓厚度變異(TTV)的影響,以求得最佳參數進而提升拋光製程品質。
    顯示於類別:[工業工程與管理系(所)] 【工業工程與管理系所】博碩士論文

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