以修飾後的ZSM-5 觸媒進行甲苯歧化與甲苯甲醇烷基化之研究

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題名:	以修飾後的ZSM-5 觸媒進行甲苯歧化與甲苯甲醇烷基化之研究
作者:	呂春美倪聖中陳亭穆劉芳婷
貢獻者:	國立勤益科技大學
關鍵詞:	ZSM-5 甲苯岐化甲苯/甲醇烷基化矽化學氣相沉積
日期:	2013-05-24
上傳時間:	2013-07-05 15:28:59 (UTC+8)
出版者:	台中;滄海書局
摘要:	本研究以商業化ZSM-5 的CBV2314 與T-4480 作為甲苯岐化反應之觸媒，並利用Si-CVD 與鹼化物吸附進行觸媒修飾作用，以提高對-二甲苯(PX)之選擇率，並探討在相同的修飾方法下進行甲苯甲醇烷基化反應對PX 之選擇率之影響。以Si-CVD 與鹼化物吸附進行觸媒修飾，可以成功的減少觸媒外表面異構化反應的產生進而提高對-二甲苯產物之選擇率。CBV2314 觸媒經由Si-CVD 修飾後進行甲苯岐化反應可再利用鹼化物吸附表面修飾，使PX 選擇率再提升。CBV2314 觸媒在420℃、400psi 下，分別進行甲苯岐化反應與甲苯甲醇烷基化反應，以甲苯岐化反應中之PX 選擇率較高，為85.8%。 CBV2314 與T-4480 觸媒在反應溫度為390℃、14.7psi 下進行甲苯甲醇烷基化反應，以CBV2314 觸媒之PX 選擇率較好，可達95.7%。
關聯:	2013綠色科技工程與應用研討會
顯示於類別:	[化工與材料工程系(所)] 【化工與材料工程系所】研討會論文

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