ITO 薄膜添加Ag 對電磁波遮蔽之影響

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Title:	ITO 薄膜添加Ag 對電磁波遮蔽之影響
Authors:	戴峻昌鄭文達
Contributors:	國立勤益科技大學
Keywords:	磁控濺射電磁波遮蔽 ITO
Date:	2013-05-24
Issue Date:	2013-07-17 14:10:03 (UTC+8)
Publisher:	台中;滄海書局
Abstract:	本實驗為利用真空磁控濺射機在塑膠板上製備兩種電磁波遮蔽薄膜，一種為 ITO 薄膜另一種則為ITO/Ag/ITO 薄膜，比較兩種不同薄膜在相同濺射參數的情況下，有無添加Ag 對電磁波遮蔽效能之影響。首先PC(聚碳酸酯)板作為襯底將ITO 及Ag 作為濺射靶材，改變ITO 之濺射功率並且固定Ag 濺射功率之方式，製備出含量不同的ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜。利用多功能色相儀來量測其穿透率，藉以比較兩種不同薄膜在相同濺射參數下其穿透率之優劣。本文利用改變ITO 靶濺射功率(30 瓦、40 瓦、50 瓦、60 瓦)的方式來製備出不同含量的 ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜，以無線網路數據機作為電磁波發射源並用毫高斯計測量電磁波遮蔽效益，發現在相同的ITO 濺射參數下有多鍍上Ag 的ITO/Ag/ITO 薄膜比沒有濺鍍Ag 的 ITO 薄膜，效能可提高2 倍以上。
Relation:	2013綠色科技工程與應用研討會
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