應用六標準差方法改善光電產業超潔淨閥製程能力之研究

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題名:	應用六標準差方法改善光電產業超潔淨閥製程能力之研究
作者:	梁杰偉翁國亮林文燦
貢獻者:	資訊與電能科技研究所
關鍵詞:	田口方法超潔淨閥表面粗糙度六標準差 TRIZ方法
日期:	2012-12
上傳時間:	2013-08-06 15:22:10 (UTC+8)
出版者:	台中;國立勤益科技大學
摘要:	近年來光電半導體及生技產業蓬勃發展，使閥製品需求大幅提高，產品精密度也跟著大幅提升。閥製品為達到耐火、防爆、耐腐蝕、耐高溫高壓等功能水準，需要製閥業持續地投入產品研發及製程改善。在光電、半導體製程中以超潔淨閥件輸送潔淨及具毒性之液體及氣體，提供製程中清潔、化學加工所使用，流道中若產生殘留的問題使流體或氣體產生化學變化，將使製程中產生相當大的危險性，控制表面粗糙度將有效改善殘留問題，並有利於閥件生產製程中的清潔處理。本研究使用六標準差方法導入超潔淨閥產業中並應用田口方法找出影響製程重要因子，進行實驗後確認改善後為最佳製程。藉由本研究田口實驗的改善找出最佳參數，實驗後發現CPK值由0.27提升至1.19，顯示製程能力提升成效良好，成功改善表面粗糙度的製程能力，提升加工品質穩定度，可提高超潔淨閥產品品質，有效提升產品競爭性，並提供給業界當作參考之依據。
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