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    題名: ITO 薄膜添加Ag 對電磁波遮蔽之影響
    作者: 戴峻昌
    鄭文達
    貢獻者: 國立勤益科技大學
    關鍵詞: 磁控濺射
    電磁波遮蔽
    ITO
    日期: 2013-05-24
    上傳時間: 2013-07-17 14:10:03 (UTC+8)
    出版者: 台中;滄海書局
    摘要: 本實驗為利用真空磁控濺射機在塑膠板上製備兩種電磁波遮蔽薄膜，一種為 ITO 薄膜另
    一種則為ITO/Ag/ITO 薄膜，比較兩種不同薄膜在相同濺射參數的情況下，有無添加Ag 對電
    磁波遮蔽效能之影響。首先PC(聚碳酸酯)板作為襯底將ITO 及Ag 作為濺射靶材，改變ITO
    之濺射功率並且固定Ag 濺射功率之方式，製備出含量不同的ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜。
    利用多功能色相儀來量測其穿透率，藉以比較兩種不同薄膜在相同濺射參數下其穿透率之優
    劣。
    本文利用改變ITO 靶濺射功率(30 瓦、40 瓦、50 瓦、60 瓦)的方式來製備出不同含量的
    ITO 薄膜及ITO/Ag/ITO 薄膜，以無線網路數據機作為電磁波發射源並用毫高斯計測量電磁波
    遮蔽效益，發現在相同的ITO 濺射參數下有多鍍上Ag 的ITO/Ag/ITO 薄膜比沒有濺鍍Ag 的
    ITO 薄膜，效能可提高2 倍以上。
    關聯: 2013綠色科技工程與應用研討會
    顯示於類別:[機械工程系(所)] 【機械工程系】研討會論文

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